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Add to my wish list Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization Nicolas Posseme Plasma etching has long enabled the perpetuation of Moore's Law. Today, etch compensation helps to create devices that are smaller than 20 nm. But, with the constant downscaling in device dimensions and the emergence of complex 3D structures (like FinFet, Nanowire and... Publication date: 2017-01-25 Format: PDF, epub DRM-free Publisher: Iste Press - Elsevier PDF epub DRM-free Add to basket £51,68

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Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization

Nicolas Posseme

Plasma etching has long enabled the perpetuation of Moore's Law. Today, etch compensation helps to create devices that are smaller than 20 nm. But, with the constant downscaling in device dimensions and the emergence of complex 3D structures (like FinFet, Nanowire and...

Publication date: 2017-01-25

Format: PDF, epub DRM-free

Publisher: Iste Press - Elsevier

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